UV cutoff aditiv pro mobilní fázi

Aditivum	UV cutoff (nm)
Kyselina octová, 1%	230
Octan amonný, 10 mM	205
Uhličitan amonný, 10 mM	190
Hydrogenfosforečnan amonný, 50 mM	205
CAPS 3-(cyklohexylamino)ethansulfonová kyselina, 0,1 %	215
EDTA, 1 mM	190
Kyselina chlorovodíková, 0,1 %	190
Hydrogenfosforečnan vápenatý, 10 mM	190
Hydrogenfosforečnan vápenatý, 10 mM	190
MES 2-(N-morfolino)ethansulfonová kyselina, pH 6,0, 10 mM	215
Octan sodný, 10 mM	205
Citrát sodný, 10 mM	225
Dodecylsulfát sodný, 10 mM	190
Formiát sodný, 10 mM	200
Natrium-hexansulfonová kyselina, 5 mM	225
TEA, (triethylamin), 1%	235
TFA (kyselina trifluoroctová), 0,1 %	190
Tetrabutylamonium dihydrogenfosfát, 5 mM	200
TRIS HCl (Tris(hydroxylmethyl)aminomethan), pH 7,0, 20 mM	202
TRIS HCl (Tris(hydroxylmethyl)aminomethan), pH 8,0, 20 mM	212